产品介绍：硅片旋转冲洗甩干机用于清洗甩干太阳能硅片和半导体硅片，是湿法清洗工艺的主要设备，目前主要机型有四工位，六工位和八工位系列。主要工作过程为：喷淋旋转冲洗＋离心甩干＋氮气加热烘干。

产品介绍：硅片旋转冲洗甩干机用于清洗甩干太阳能硅片和半导体硅片，是湿法清洗工艺的主要设备，目前主要机型有四工位，六工位和八工位系列。主要工作过程为：喷淋旋转冲洗＋离心甩干＋氮气加热烘干。

全自动硅片旋转冲洗甩干机是根据国际、国内半导体产业的发展和市场需求，研究开发的旋转冲洗甩干设备。该机型具有高洁净度旋转冲洗甩干功能。本系列机型可以适应从φ25mm 到φ200mm 直径（包括方形和其它特殊形状）片式材料的旋转冲洗甩干工艺。可用于半导体晶片、砷化镓材料、掩膜版、太阳能电池基片、蓝宝石、铌酸锂、光学镜片、磁盘、光盘、医用玻璃基片等类似材料的高洁净度冲洗甩干。是半导体湿法清洗工艺中必不可少的主流设备之一。

无锡华润华晶使用了奥曼特四工位的甩干机，奥曼特公司甩干机用于清洗甩干太阳能硅片和半导体硅片，是湿法清洗工艺的主要设备，目前主要机型有四工位，六工位和八工位系列。2007年奥曼特“硅片旋转冲洗甩干机”评为国家高新技术产品，好产品，效果就是棒！

全自动硅片旋转冲洗甩干机用于清洗甩干太阳能硅片和半导体硅片，是湿法清洗工艺的主要设备，目前主要机型有四工位，六工位和八工位系列。主要工作过程为：喷淋旋转冲洗＋离心甩干＋氮气加热烘干。

硅片旋转冲洗甩干机用于清洗太阳能硅片和半导体硅片，是湿法清洗工艺的主要设备，目前主要机型由四工位，六工位和八工位系列。主要工作过程为：喷淋旋转冲洗+离心甩干+氮气加热烘干。