全自动硅片旋转冲洗甩干机是根据国际、国内半导体产业的发展和市场需求，研究开发的旋转冲洗甩干设备。该机型具有高洁净度旋转冲洗甩干功能。本系列机型可以适应从φ25mm 到φ200mm 直径（包括方形和其它特殊形状）片式材料的旋转冲洗甩干工艺。可用于半导体晶片、砷化镓材料、掩膜版、太阳能电池基片、蓝宝石、铌酸锂、光学镜片、磁盘、光盘、医用玻璃基片等类似材料的高洁净度冲洗甩干。是半导体湿法清洗工艺中必不可少的主流设备之一。

设备利用旋转离心力的方式进行去离子水冲洗、热氮气烘干，DI水电阻率监控、氮气加温、防静电控制以及系统洁净化处理来达到高洁净度的片子清洗效果。

设备由主机、相互独立的工作腔体、片架载体、去离子水、氮气控制系统，以及PLC控制和操作系统组成。

产品市场推广应用情况

1、产品市场应用情况

因为该系列设备在系统结构、技术原理、设备造型等方面比较成功。同时在实施上瞄准了国外先进机型水平。性能指标优良、整体技术水平达到了国外同类设备的先进水平。

2、系列化产品开发

针对不同用户、不同工艺需求、不同使用场合， 为了提高产品的竞争力，针对市场情况，我们现正在抓紧系列旋转冲洗甩干机整合工艺功能，采纳新技术，新工艺机型以及12″机型的进一步开发和完善。未来3年内，腔式系列机型将初步形成一个可分别适应高、中、低端不同市场、不同需求的多规格系列化产品，其中大部分开发工作已经完成。

腔式系列机型的研制开发，必将提高我国行业装备的战略地位，深入贯彻落实科学发展观，适应国内外形势新变化，顺应各族人民过上更好生活新期待，以科学发展为主题，以加快转变经济发展方式为主线，深化改革开放，保障和改善民生，巩固和扩大应对国际金融危机冲击成果，促进经济长期平稳较快发展和社会和谐稳定，为全面建成小康社会打下具有决定性意义的基础。推动经济发展再上新台阶。对替代进口，节约外汇，产品国产化和满足国内生产的需求及今后的发展均有十分重要的意义。除此，对现有国内仍在使用的进口设备维修及配套件更换，也有一定积极作用。同时，该产品无论从加工产品洁净度和生产效率上都能较好地满足半导体湿法清洗工艺的要求，在实际使用过程效果较佳，并拓宽了市场，在半导体工艺用片架、片盒及异型片类似产品等领域也得到技术提升和实际应用。