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无锡奥曼特——半导体行业广泛应用哪种清洗技术

作者: 编辑: 来源: 发布日期: 2018.09.13
信息摘要:
半导体行业广泛使用的是哪种清洗技术?半导体行业广泛使用的是超声波清洗技术,无锡奥曼特专业生产超声波清洗机。

半导体行业广泛使用的是哪种清洗技术?半导体行业广泛使用的是超声波清洗技术无锡奥曼特专业生产超声波清洗机

超声波清洗是半导体工业中上泛应用的一种清洗方法,其优点是:清洗效果好,操作简单,对于复杂的器件和容器也能清除,这种清洗方法是在强烈的超声波作用下(常用的超声波频率为20-40kHz),液体介质内部会产生疏部和密部,疏部产生近乎真空的空腔泡,当空腔泡消失的瞬间,其附近便产生强大的局部压力,使分子内的化学键断裂将晶园表面的杂质解吸, 超声波清洗的效果与超声条件(如温度、压力、超声频率、功率等)有关,多用于清除圆片表面附着的大块污染和颗粒。

超声波清洗机_副本


超声波的功率密度越高,空化效果越强,速度越快,清洗效果越好。但对于精密的、表面光洁度甚高的物体,采用长时间的高功率密度清洗会对物体表面产生空化腐蚀。

超声波频率越低,在液体中产生空化越容易,作用也越强。频率高则超声波方向性强,适合于精细的物体清洗。

一般来说,超声波在30℃~40℃时空化效果最好。清洗剂则温度越高,作用越显著。

通常实际应用超声波清洗时,采用40℃~50℃的工作温度。

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