芯科技消息，韩国研究团队开发出新的「断电式减少燃气、灰尘装置」技术，若在半导体制程中采用，可针对制程前、后所产生的污染物质进行处理，有效的减少废弃物质与温室气体，同时预计能使半导体设备规模减少30%。

根据韩国财经媒体《首尔经济》报导，韩国机械研究院的院长朴天洪表示，环境系统研究本部中的金勇镇博士研究组，开发出了可以用于处理半导体工程的燃气、灰尘装置。

随着大面积的显示屏产量增加、制造半导体所需的晶圆直径开始大型化，半导体工程中的快速洗净工程等也随之增加，这样的影响会造成半导体制程废气量持续增加。

在半导体生产制程中，经过腐蚀、化学蒸镀或离子注入等步骤，会产生多样的有害物质，诸如SF6（六氟化硫）、CF4（四氟化碳）、NF3（三氟化氮）、HF（氟化氢）、氮氧化物以及悬浮微粒等，解决废气的必要性也开始提高。

一般来说，在制造设备或处理沉淀物等方面，通常会选择催化剂还原（SCR）和湿式清除设备等方法来清除。

而研究组新开发的装置则结合断电酸化、湿式还原、湿式电气集尘三种方式，不论是利用高温清除、低温处理废弃气体，还是不同的低温状态中，全部都可以在同一设备中处理。这项设备把排出的废气制成易溶性状态，再喷洒复合还原剂，最后排出的悬浮微粒气体将通过自动清洗型电气集尘装置清除，提高了净化效率。

金勇镇表示，如果现有污染物质去除装备的设置面积和处理量成比例的话，新开发的装置可通过气流量和浓度，以及与外部的静电注入量来对比做调节。