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韩国团队新技术还能使半导体设备规模减3成
作者: 编辑: 来源: 发布日期: 2018.10.31
信息摘要:
芯科技消息,韩国研究团队开发出新的「断电式减少燃气、灰尘装置」技术,若在半导体制程中采用,可针对制程前、后所产生的污染物质进行处理,有效的减…

芯科技消息,韩国研究团队开发出新的「断电式减少燃气、灰尘装置」技术,若在半导体制程中采用,可针对制程前、后所产生的污染物质进行处理,有效的减少废弃物质与温室气体,同时预计能使半导体设备规模减少30%

根据韩国财经媒体《首尔经济》报导,韩国机械研究院的院长朴天洪表示,环境系统研究本部中的金勇镇博士研究组,开发出了可以用于处理半导体工程的燃气、灰尘装置。

随着大面积的显示屏产量增加、制造半导体所需的晶圆直径开始大型化,半导体工程中的快速洗净工程等也随之增加,这样的影响会造成半导体制程废气量持续增加。

在半导体生产制程中,经过腐蚀、化学蒸镀或离子注入等步骤,会产生多样的有害物质,诸如SF6(六氟化硫)、CF4(四氟化碳)、NF3(三氟化氮)、HF(氟化氢)、氮氧化物以及悬浮微粒等,解决废气的必要性也开始提高。

一般来说,在制造设备或处理沉淀物等方面,通常会选择催化剂还原(SCR)和湿式清除设备等方法来清除。

而研究组新开发的装置则结合断电酸化、湿式还原、湿式电气集尘三种方式,不论是利用高温清除、低温处理废弃气体,还是不同的低温状态中,全部都可以在同一设备中处理。这项设备把排出的废气制成易溶性状态,再喷洒复合还原剂,最后排出的悬浮微粒气体将通过自动清洗型电气集尘装置清除,提高了净化效率。

金勇镇表示,如果现有污染物质去除装备的设置面积和处理量成比例的话,新开发的装置可通过气流量和浓度,以及与外部的静电注入量来对比做调节。

这项设备是采一体构造、复合处理的方式,可大量地减少设备面积,加上湿式自动洗净的电气集尘装置的低压和高耐久性技术,很适合生产线使用。研究组也认为,如果实际应用这项技术,设备规模将比现有减少30%左右。

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